近期，各大视频平台疯传一条消息，称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化，实现了光刻机国产化，并表示这个项目已经在雄安新区落地，还在视频中配了这样一张图，表示图片中的项目就是光刻厂。中国电子院9月18日发文解释称，图片中项目其实是北京高能同步辐射光源项目（HEPS）。

HEPS坐落于北京怀柔雁栖湖畔，是国家“十三五”重大科技基础设施。它是我国第一台高能量同步辐射光源，也是世界上亮度最高的第四代同步辐射光源之一。早在2019年就开始建设，将于2025年底投入使用。

简单的说，HEPS可以看成是一个超精密、超高速、具有强大穿透力的巨型X光机。它产生的小光束可以穿透物质、深入内部进行立体扫描，从分子、原子的尺度多维度地观察微观世界。HEPS是进行科学实验的大科学装置，并不是网传的光刻机工厂。

虽然HEPS不是光刻厂，但关于光刻厂的信息之所以能在自媒体平台迅速刷屏。归根到底还是源于大众对解决“卡脖子”难题的期待。中国电子院强调，他们在助力“中国芯”之路上持续发力。近年来，中国电子院深耕细做半导体行业，承担了国内超过50%的存储芯片项目。为国家在电子信息领域实现科技自立自强做出了重要贡献。

当前，面对复杂、严峻的国际形势，行业企业自立自强迫在眉睫。为打造更具竞争力的先进电子制造工厂，目前已推出“先进电子制造数字孪生工厂解决方案1.0版”。今年，中国电子院还成立松山湖先进半导体工程技术联合创新中心。未来，中国电子院将持续瞄准国家重大战略需求，开展关键核心技术攻关，加快突破“卡脖子”难题，全力推动半导体国产化进程。

（编辑：斯文）